TAKCHIP
低成本/小型化/简化的研发系统
1. 加热Mini ALD
- 层流型
- 單一加热型
- 缓冲区和集群系统
2. 等离子微型 ALD
| 项 目 | 内 容 |
| 腔体类型 | 横向型（行波） |
| 反应类型 | 使用热（H2O，DI） |
| 基板尺寸 | 8 英寸（200 毫米） |
| 尺寸（宽 x 长 x 高） | 800 x 480 x 540 毫米 |
| 重量 | < 80 千克 |
| 均匀性 | ≤±2%（25 点 EE15mm 内） |
| ≤±1%（晶圆到晶圆） | |
| 循环时间 | ≤ 10 秒/周期 |
| 每循环生长 | ≤ 1.2Å/周期 |
| 沉积速率 | ≥ 7Å/分钟（参考，Al2O3） |
| RI | Al2O3 ：1.55~1.65 / SiO2 ：1.4 ~ 1.5 |
| TiO2 ：1.9~2.0 等 | |
| 透射率 | ≥ 95%（玻璃上 50nm 厚度） |
| WVTR（@50nm） | 单层：低 10E-3 g/m2-day |
| 纳米层：低 10E-5 g/m2-day | |
| 基准压力 | ≤ 1.0x10-3Torr（≤ 5分钟) |
| 工艺压力 | 0.5~2 Torr |
| 基板温度 | 最高400℃，≤±1%（设定温度） |
| 材料 | 腔体：Al6061 |
| 加热器：块式加热器 | |
| 可用沉积膜 | DI/O3 金属氧化物 |
| H2S 金属硫化物 | |
| O3 发生器（可选） | O3 发生器 _ 220g/cm3 _ 2L/min |
| 真空计 | ATM 开关 |
| Baratron 压力表（<10 Torr） | |
| 泵类型 | 油旋转泵（<1000L/min） |
| ETC | 每条进料管路旁通管路 |
| 笔记本电脑控制 |
