CORONA-500W
EMC 干刻蚀
等离子除胶
Si、SiC、ABF、金属微刻蚀
晶圆等离子体清洗
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项目 |
内容 |
项目 |
内容 |
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设备尺寸 |
1900*1500*2100mm（L*W*H） |
工艺气体 |
O₂, Ar, N₂, CF₄（备用） |
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腔体模式 |
侧面开口 |
进气方式 |
顶部进气 |
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晶圆尺寸 |
8 英寸（兼容 6 英寸、12 英寸）厚度≥200um，翘曲≤1mm |
流量计 |
0-300sccm |
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电源配置 |
RF1000W、13.56MHz |
真空泵 |
干泵 |
